تراشه ۵ نانومتری توسط مهندسان چینی در شرایطی طراحی و تولید شده که دسترسی به فناوری‌های حیاتی غربی، به ویژه ابزارهای لیتوگرافی EUV، با محدودیت‌های جدی رو به رو بوده است. در جهانی که فناوری نیمه رسانا به یکی از اصلی‌ترین اهرم‌های قدرت ژئوپولیتیک تبدیل شده، پیشرفت خیره کننده شرکت SMIC در تولید تراشه‌های ۵ نانومتری بدون استفاده از فناوری EUV نه تنها یک موفقیت فنی چشمگیر است، بلکه پیامی سیاسی و استراتژیک نیز به همراه دارد.
این تحول، قواعد بازی را در صنعت تراشه بازنویسی کرده و وابستگی تاریخی به ابزارهای پیشرفته غربی را زیر سوال برده است.
نبوغ مهندسی در برابر انحصار تکنولوژی
برای سال‌ها، فناوری لیتوگرافی فرابنفش شدید (EUV) که توسط شرکت هلندی ASML تولید می‌شود، به عنوان تنها راهکار ممکن برای ساخت تراشه‌هایی با فناوری زیر ۷ نانومتر شناخته می‌شد. اما در پی تحریم‌های ایالات متحده علیه چین، این ابزار پیشرفته از دسترس شرکت‌های چینی خارج شد. تحلیلگران پیش بینی می‌کردند که صنعت نیمه رسانای چین در نقطه ۷ نانومتری متوقف خواهد شد.
اما شرکت SMIC، با تکیه بر فرآیندهای پیچیده لیتوگرافی مبتنی بر فناوری قدیمی‌تر DUV و تکنیکی پیشرفته به نام SAQP، موفق به ساخت تراشه‌های ۵ نانومتری شده است. این رویکرد اگرچه زمان‌بر، پرهزینه و نسبتا پرخطاست، اما نشان داد که با تکرار و مهندسی دقیق می‌توان محدودیت ابزار را با خلاقیت فنی جبران کرد.
نکته مهم در این پیشرفت، صرفا تولید تراشه‌های پیشرفته نیست، بلکه شکل گیری زنجیره‌ای موازی و بومی از تجهیزات تولید نیمه رسانا در داخل چین است. شرکت‌هایی مانند AMEC در حوزه اچینگ و NAURA در زمینه شستشوی ویفر، اکنون در جایگاهی رقابتی با غول‌های جهانی مانند Lam Research و Tokyo Electron قرار گرفته‌اند.
برخلاف تصور رایج که صنایع پیشرفته چین را صرفا تقلیدگر می‌دانست، این دستاوردها نشان می‌دهند که چین دیگر در حال کپی برداری نیست، بلکه مشغول خلق نسخه‌های مستقل و بعضا نوآورانه از فناوری‌ها است.
همزمان با رشد قابلیت‌های فنی SMIC، شرکت هوآوی نیز از این فرصت بهره‌برداری کرده است. معرفی پردازنده هوش مصنوعی Ascend 920، که به احتمال بالا روی گره ۶ نانومتری SMIC تولید شده، تنها نشانه‌ای از جهش صنعتی چین نیست، بلکه نشان دهنده دگرگونی بازار داخلی نیز هست.
در شرایطی که محدودیت صادرات چیپ‌های Nvidia به چین، مانعی جدی برای توسعه هوش مصنوعی تلقی می‌شد، هوآوی با تکیه بر سخت افزار بومی موفق شده تا جایگزینی موثر و رقابتی ارائه دهد. این سیاست‌های بازدارنده، به جای متوقف کردن، انگیزه‌ای برای خود اتکایی و تسریع توسعه فناوری در داخل چین فراهم کرده‌اند.
چشم‌انداز ۳ نانومتری با DUV
در حالی که بسیاری تصور می‌کردند مرزهای لیتوگرافی DUV به پایان رسیده، خبرهایی از تلاش SMIC برای دستیابی به فناوری Self-Aligned Octuple Patterning (SAOP) جهت تولید تراشه‌های ۳ نانومتری با استفاده از DUV منتشر شده است. اگر این پروژه موفق شود، آنگاه تصور رایج از اجبار به استفاده از EUV در گره‌های فناوری پیشرفته نیز باید مورد بازنگری قرار گیرد.
البته باید پذیرفت که این تراشه‌ها از نظر بهره‌وری و عملکرد، هنوز با نمونه‌های EUV محور تولید شده توسط TSMC یا سامسونگ فاصله دارند. اما نکته کلیدی آن است که برای بسیاری از کاربردهای روزمره در حوزه‌هایی چون ۵G، پردازش ابری و حتی یادگیری ماشین، این تراشه‌ها به اندازه کافی خوب هستند.
ویلیام هو، تحلیل‌گر سرشناس نیمه رسانا، این دستاورد را این گونه توصیف می‌کند:
قانون مور نمرده؛ فقط به شانگهای مهاجرت کرده است.
چین با ابزارهای محدود، اما اراده و منابع مهندسی وسیع، در حال بازنویسی مسیر توسعه فناوری نیمه رساناست. مسیر آینده ممکن است دیگر نه از طریق در اختیار داشتن بهترین ابزارها، بلکه از طریق تسلط کامل بر زنجیره تولید و انعطاف مهندسی تعیین شود.
اتفاقی که در پشت دیوارهای سکوت کارخانه‌های SMIC در حال رخ دادن است، نه تنها یک چالش برای سلطه تکنولوژیکی غرب، بلکه تلاشی جدی برای بازتعریف نظم موجود در صنعت نیمه رساناست. این تحولات تنها مربوط به یک شرکت یا یک کشور نیستند؛ بلکه می‌توانند به بازچینش کامل زنجیره‌های جهانی تامین، بازنگری در تحریم‌ها و حتی ایجاد موازنه‌های جدید ژئوپولیتیک بینجامند.
در نهایت، شاید مهم‌ترین درس از این تحول آن باشد که در جهانی مملو از محدودیت‌ها، برنده کسی است که حتی بدون دسترسی به بهترین منابع، دست از ساختن نکشد.
__ تکنو دات مرجع اخبار تکنولوژی __
